|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 47 van 70 gevonden artikelen
| Titel: |
Recognition and Imaging of Point Defect Diffusion, Recombination, and Reaction During Growth of Czochralski-Silicon Crystals |
| Auteur: |
Hourai, Masataka Asayama, Eiichi Nishikawa, Hideshi Nishimoto, Manabu Ono, Toshiaki Okui, Masahiko |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 49 () nr. 9 pagina's 5110-5119 |
| Jaar: |
2020-05-20 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 47 van 70 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |