|
Tijdschrift beschrijving Plasma chemistry and plasma processing
| Titel: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Annotatie: |
1× per 3 maanden Verschijnt ook in gedrukte vorm Gedrukte versie: Plasma chemistry and plasma processing = ISSN 0272-4324 In 2004 hierin opgenomen: Plasmas and polymers = ISSN 1572-8978 Exemplaar met signatuur: e-Depot Springer. - AANWEZIG: Jrg. 17 (1997)– - mogelijk incompleet |
| Onderwerp: |
Plasma's 33.80 plasma's, elektrische ontladingen 51.22 oppervlakken, grenslagen en dunne lagen |
| Uitgever: |
Dordrecht [etc.] : Kluwer Academic Publishers |
| Volgnummer: | 1 van 1 |